半導體市場30年的創新
    我們的團隊致力于超痕量分析的改進。為此我們設計了許多新技術，獲得了180多項專利和多項突破。
　　
　　1992
    K2000: 第一臺數字式痕量氮分析儀的所有者伊夫-加馬奇（Yves Gamache）
　　
　發明了K2000，這是一種小型的、重量輕的分析儀，優于當時所有市場上的儀器，震驚了當時的氣體分析和色譜行業。
　　
　　1995
    The K2001: 下一代分析儀Yves Gamache繼續開發一系列顛覆性技術包括K2001。這是該領域的一次重大飛躍，N2分析儀在全球范圍內取得了立竿見影的成功，30年后，它仍然是現在市場的標桿。
　　
　　1997
    K2002: 獲得無與倫比的檢出限一種新的設計使K2001的檢出限成為業內最佳，然后成為K2002。由于我們的聲譽和業績記錄，K2002在半導體行業取得了立竿見影的成功。
　　
　　2000
    K4000: 半導體痕量N2和Ar分析的標桿基于獨特的等離子體發射檢測器和可以分離Ar和O2的突破性色譜柱。K4000成為行業中的標桿，檢出限<1 ppb。
　　
　　2007
    AFP: 改進氣相色譜閥Controcirc Analytique被出售給Servomex UK后，團隊開始專注于創新型新閥門的開發,這些閥門誕生了一家名為Analytical Flow Products（AFP）的公司。
　　
　　2017
    ASDevices誕生(sheng)了(le)-結(jie)合了(le)30年(nian)的(de)(de)知(zhi)識(shi)我(wo)們(men)結(jie)合了(le)30年(nian)的(de)(de)超痕量分(fen)析經驗，創造(zao)了(le)新的(de)(de)知(zhi)識(shi)產權(quan)和創新的(de)(de)產品組(zu)合，徹底改變了(le)這個(ge)市場，為我(wo)們(men)的(de)(de)長(chang)期客戶(hu)帶來了(le)更好的(de)(de)解決方案。